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光刻机的生产集中了光学，机械制造，电子信息，软件工程等多种精密性和高技术性科学，能够生产光刻机的厂商也不多。目前，全球市场上能够实现大规模工业化生产的高端投影式光刻机设备厂商有ASML，Nikon，Canon，其中ASML以良好的技术优势占据了高端光刻机市场的60%以上份额，设备的价格折合人民币在1000万元以上。而科研和生产线用的中端和低端光刻机品牌有德国SUSS,美国MYCRO NXQ等国外品牌和韩国台湾品牌，人民币价格分布在几十万至几百万之间。
光刻机是将集成电路等电路图型投影到不同基片表面的设备。在半导体集成电路，半导体封装，平板显示器如LED屏幕，等离子屏幕，以及太阳能电池等生产中是工艺的核心设备。其制作难度高，精度要求严格，密集高端技术的重要设备，
光刻机技术路线图
光刻工艺流程
包括掩膜台系统、掩膜输送系统、投影物镜系统、硅片传输系统、调平调焦系统以及工件台系统在内的诸多机构均需要极高的定位精度、快速的测量频率和稳定的测量结果。德国米铱公司精密位移传感器因其出众的产品性能，一直被广泛应用于光刻机的生产制造环节。
德国米铱高精度电容位移传感器测量系统 capaNCDT6500
? 线性量程 0.05-10 mm? 绝对误差 ≤±0.05 %
? 分辨率 0.000075%
? 极限频率 8.5kHz (-3dB)
? 次纳米级别的超高稳定性和分辨率
? 模块化-多达8通道
? 外置或内置前端放大器
? 以太网端口
? 无磨损，免维护
? 适用于导电材料
高分辨率多通道系列capaNCDT6530电容非接触位移传感器系统，适用于生产设备，测试设备，实验室和不同流程的质量保证等应用场合。
德国米铱高精度光谱共焦位移传感器confocalDT系列
? 绝对误差 ≤ ±0.05 %? 分辨率 0.004%
? 测量频率 标准25kHz / 可选70kHz (光源外置)
